Nasschemische Anlagen
Halbautomatische, nasschemische Anlagen ermöglichen es, Lösungen für ein breites Spektrum an Anforderungen zu erfüllen. Ausgelegt auf wässrig, sauer, alkalisch, stark oxidierende und heiße Lösemittel.
Die Gestaltung von hochentwickelten Modulen und Systemen, welche auf die Anforderungen unserer Kunden zugeschnitten sind, stellen das Herzstück bei der Produktentwicklung dar.
- Verfahren für Standard Wafer von 2″ bis 12″
- spezielle Substrate unterschiedlicher Größen und Materialien